无色透明油状液体，ArF 光刻胶酸敏叔酯单体；几乎不溶于水，可溶于甲苯、二氯甲烷、THF、乙酸乙酯；密度 0.95 g/cm³，闪点 86℃；商品一般添加 MEHQ 阻聚剂；分子带有酸可裂解叔酯结构，曝光后遇酸脱保护释放羧基；环己脂环结构提升树脂耐热、耐干法刻蚀性能；受热、光照、引发剂条件下易自由基聚合。
合成路线
1‑甲基‑1‑环己醇与甲基丙烯酰氯在缚酸剂存在下酯化；或者甲基丙烯酸酯交换工艺；水洗除盐，减压精馏得到电子级光刻单体成品。
应用领域
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半导体光刻：193nm ArF 化学放大光刻胶树脂共聚单体，提供酸解离位点，脂环结构改善聚合物耐刻蚀与热稳定性，用于半导体光刻基体树脂，也用于 EUV 配套树脂研发。
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高分子材料：制备高 Tg 丙烯酸树脂、光学涂料、特种胶粘剂，调节聚合物刚性。
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科研：功能高分子合成砌块；不属于日化、涂料大宗工业原料，以电子化学品为主。
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产品展厅
