无色至浅淡黄色透明油状液体，ArF 光刻胶脂环酸敏单体；几乎不溶于水，可溶于甲苯、二氯甲烷、THF、乙酸乙酯；密度 0.95‑0.96 g/cm³；闪点 74℃；商品一般添加 MEHQ 阻聚剂；分子带有酸可裂解叔酯结构，曝光后遇酸脱保护；环戊烷脂环结构提升聚合物耐刻蚀、耐热性能；受热、光照、引发剂作用下易发生自由基自聚。
合成路线
1‑甲基‑1‑环戊醇与甲基丙烯酰氯在缚酸剂条件下酯化反应，或者采用甲基丙烯酸酸催化酯交换工艺；水洗除盐，减压精馏提纯得到电子级光刻单体成品。
应用领域
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半导体光刻：193nm ArF 化学放大光刻胶树脂核心共聚单体，提供酸解离位点与耐干法刻蚀性能，用于半导体光刻树脂合成，也适配 EUV 配套树脂体系。
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高分子材料：用于制备高玻璃化温度特种丙烯酸树脂、光学涂料、特种胶粘剂，调节聚合物刚性与耐候性。
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科研：脂环功能高分子合成砌块；不属于日化大宗原料。
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产品展厅
