无色透明油状液体，ArF 光刻胶脂环类特种甲基丙烯酸酯单体；不溶于水，可溶于甲苯、二氯甲烷、四氢呋喃、乙酸乙酯等有机溶剂；密度约 1.05‑1.06 g/cm³；闪点＞110℃；商品一般添加 MEHQ 阻聚剂；带有酸可裂解叔酯基团，遇酸发生脱保护；金刚烷刚性结构赋予聚合物优异耐干法刻蚀性能；受热、光照容易发生自由基自聚。
合成路线
2‑甲基‑2‑金刚烷醇与甲基丙烯酰氯在缚酸剂条件下发生酯化反应；也可采用甲基丙烯酸直接酸催化酯化或者酯交换工艺；反应后水洗除盐，减压蒸馏提纯得到电子级单体成品。
应用领域
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半导体光刻：193nm ArF 化学放大正胶核心单体，共聚之后提供耐刻蚀能力与酸解离位点，用于先进半导体光刻胶树脂合成，也用于 EUV 光刻配套树脂。
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高分子材料：制备高 Tg、低收缩、耐候特种丙烯酸聚合物；光学涂层、特种胶粘剂。
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科研：脂环功能高分子合成砌块；不属于日化大宗原料。
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产品展厅
