无色至浅淡黄色透明油状液体，光刻胶特种单体；不溶于水，可溶于四氢呋喃、二氯甲烷、甲苯、乙酸乙酯等有机溶剂；闪点约 120℃；受热、光照、自由基易发生自聚；商品一般添加 TBC 阻聚剂；带有酸敏感乙氧基乙氧基保护基团，遇酸脱保护得到对羟基苯乙烯。
合成路线
对羟基苯乙烯与乙基乙烯基醚，在对甲苯磺酸吡啶盐催化下发生加成保护反应；反应结束加碱终止，水洗浓缩，经减压蒸馏或者柱层析提纯得到单体成品。
应用领域
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半导体光刻：KrF 光刻胶树脂关键单体，聚合后树脂脱保护生成聚对羟基苯乙烯，用于高分辨率光刻胶，抗刻蚀性能好。
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高分子合成：阴离子聚合单体，制备嵌段、接枝功能聚合物；可进一步衍生各类酚基功能高分子材料。
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科研：有机电子、介电材料合成砌块；不属于日化大宗原料。
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产品展厅
